製品概要
複屈折位相差測定装置Exicor®は、半導体露光装置や液晶ディスプレイ分野で世界的に評価されています。僅かな歪みも許されないフォトマスク基板、露光装置用レンズ硝材やLCD用ガラス基板など一般的な複屈折測定装置では検出できない歪み(=リタデーション)と主軸方位を瞬時に測定します。もちろん、位相差フィルム等の偏光子素子のリタデーションも高精度に評価できます。複屈折分布はXYステージを使ってマッピングしますが、最新のScan In Motion™技術によって短時間に高密度なマッピング測定が可能です。ステージは様々な大きさのサンプルに対応します。測定波長は極紫外から近赤外まで選択できます。特注システムにも対応しますのでご相談ください。
極低レベル複屈折測定
光弾性変調器(PEM)を採用し、1nm以下の極低リタデーションの位相差分布の測定が可能。わずかな歪みをも検出します。また、HINDS社が新開発した新型ロックインアンプによって、従来機を大きく超える高速測定を実現。リタデーション分解能0.001nm、測定時間<10ミリ秒を達成しています。
用途に合わせた装置選択
サンプルサイズに合わせたマッピングステージサイズを提案します。
また、標準のHeNeレーザーだけではなく、LED光源やキセノンランプによる多波長測定、LDLS光源を使った波長193、248nmによる測定にも対応します。
その他にも、斜入射測定や反射測定など特注システムの構築も可能です。
高速マッピング測定 Scan In Motion™
従来のマッピング測定は、ステージ移動と測定を繰り返すステップスキャン測定でした。そのため、測定点数が増えると測定時間が長くなる問題がありました。Exicorの”Scan In Motion (SIM™)”はステージを移動させながら測定をおこないます。SIM機能は測定精度の低下を最小限に抑えたまま、最大100点/秒を実現しており、従来困難だった、低複屈折の高空間分解能マッピング測定を可能にしました。
特長
- リタデーションノイズレベル：0.015 nm以下
- DUV〜NIRの測定波長をラインナップ
- サンプルサイズに応じた各種ステージ
- 最速100点 / 秒を実現する高速マッピングオプション
- 球面レンズなどに対応した斜入射測定装置あり
主な用途
- ガラス硝材、フォトマスク基板の歪み検査
- 液晶ディスプレイ用ガラス基板の歪み検査
- 位相差フィルムのリタデーション、主軸方位測定
- 光学結晶の研究
