高繰り返しテラワットレーザーシステム UltraFlux Custom

製品概要

ヴィリニュス大学で開発されたOPCPA*は、従来のフェムト秒チタンサファイアよりも、高い平均出力、優れた時間コントラストおよびバンド幅が得られます。本装置は、ハンガリーにある高強度レーザー施設「ELI-ALPS」に2019年に本レーザーが納入されております。繰り返し周波数1kHz、ピーク出力5 TW以上、平均出力35W、CEP安定化されたパルス幅6.6 fsを出力します。
新たなレーザーシステムSYLOS3は、ピークパワー15TW、繰り返し周波数1KHz、パルス幅8フェムト秒という、これまで市販の装置では達成できなかったユニークなパラメータを実現します。2019年納入されELI-ALPSに設置さたSYLOS2Aシステムと比較して、3倍以上のピークパワーと平均パワーを実現することができます。このシステムは高次高調波発生によるコヒーレントX線発生や、電子加速など様々な用途に利用できます。

OPCPAとは

光パラメトリックチャープパルス増幅の略で、従来のTi：サファイアよりも高い出力が得られ、優れた時間コントラスト、広帯域バンド幅を実現します。

特長

• 1kHz繰り返し周波数
• 平均出力 >120 W
• ピーク強度 15 TW
• パルス幅  <8 fs
• CEP ～220mrad
• ASE フリー

用途・アプリケーション

• 加速器
• 高次高調波発生、EUV、XUV
• アト秒
• X線発生
• 高エネルギー粒子線発生

文献

“The ELI-ALPS facility: the next generation of attosecond sources”
https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6455/aa6ee8

“53 W average power CEP-stabilized OPCPA system delivering 5.5 TW few cycle pulses at 1 kHz repetition rate” 
https://www.osapublishing.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-25-5-5797&id=360577