製品概要
試料環境(温度・湿度・酸素濃度)を制御しながら、in situで金属などの表面電位・仕事関数変化を高感度にリアルタイムモニタリング。水吸着に伴う金属表面の電位変化や腐食防止コートの効果など、金属表面の腐食、改質の評価に最適なシステムです。
RHC20:相対湿度制御タイプ、温度制御(オプション)
RHC40 :相対湿度+雰囲気制御タイプ、温度制御(オプション)
KP Technology社について:
KP Technology社は、2000年創業の会社で、走査型ケルビンプローブシステムや有機EL電子状態評価システムなどの、仕事関数測定装置の専業メーカーです。これまで、世界で300システム以上の装置を大学、研究所、民間企業に納入しています。
創業者でありCEOでもあるProf Iain D Baikieは、1980年代から表面分析のためのケルビンプローブシステムの開発に携わり、この分野の開発と応用で、30年以上の経験を有しています。
金属腐食メカニズムの分析には:
・環境制御 X線光電子分光装置 EnviroESCA
特長
- 環境制御下でin situ測定
- 相対湿度制御:25~80%
- 酸素雰囲気制御:酸素 < 1% (RHC040)
- オプション 加熱ステージ: 室温~100℃/室温~250℃
主な用途
- 表面状態の高感度モニタリング(形状・吸着・改質・腐食)
- 金属の浸食・腐食分析
- 薄膜の腐食耐性評価 (塗膜下の腐食も検出可)
- 有機/無機半導体材料の品質管理など
オプション
- サンプルヒーター(室温~100℃/室温~250℃)
- PYSシステム
環境制御型ケルビンプローブシステム(RHCシリーズ) 測定データ例
スチールの局部腐食

走査範囲: 4.5 x 4.5 mm、チップサイズ: 50 um、仕事関数の変化: 約400 meV
*3% NaCl水溶液に30分浸漬
*タタスチール様
仕事関数の算出
ケルビンプローブシステムでは、試料とプローブチップ間の接触電位差(CPD)を計測します。この測定値は相対的な仕事関数のため、絶対的な仕事関数(WF)を得るには、金などの標準試料を利用して、以下の方法により算出します。
CPD(測定値) = WF試料 – WFチップ
WFチップ = WF標準試料 – CPD – (a)
WF試料 = WFチップ + CPD – (b)
**算出例**
WF標準試料 = 4.8 eVとして、標準試料を測定した時のCPDが+0.14 eVとすると、
(a)式より、
WFチップ = 4.8 eV – (+0.14) eV
WFチップ = 4.66 eV
*標準試料のWFは、文献値や別の手法で測定した絶対値を使用します。
次に、実際の試料を測定した時のCPDが-0.15 eVとすると、
(b)式より、
WF試料 = 4.66 eV + (-0.15) eV
WF試料 = 4.51 eV
KP Technology社CEO(Prof.Baikie)による製品紹介動画
1.走査型ケルビンプローブシステム
2.ケルビンプローブの原理
関連カテゴリ一覧リンク
●金属腐食メカニズムの分析には:
・環境制御 X線光電子分光装置 EnviroESCA
