高繰り返しOPCPA 波長可変フェムト秒レーザー UltraFlux HRシリーズ

フェムト秒波長可変 (750 〜 960 nm, 375 〜 480 nm, 250 〜 320 nm, 210 〜 230 nm)、最大14mJ@1KHz、完全同期フェムト秒/ピコ秒パルス出力オプション

メーカー名

EKSPLA

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EP25
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製品概要

UltraFlux HRシリーズは、デュアル出力ファイバーレーザー、ダイオード励起固体レーザー、光パラメトリックチャープパルス増幅(OPCPA*)技術を採用したコンパクトな高繰り返し波長可変フェムト秒レーザーシステムです。
新技術のOPCPA*フロントエンドは、デュアル出力ピコ秒ファイバーレーザーにより、励起用ピコ秒DPSSレーザーおよび広帯域パルスを出力するフェムト秒パラメトリック増幅器をシードします。これにより、励起光とシード光の同期を不要とし、それぞれのジッターを実質的にゼロにすることで、システムを大幅に簡素化することができました。さらに、ピコ秒からナノ秒の時間スケールでの出力パルスの時間コントラストが大幅に向上しています。
UltraFluxシリーズのレーザーシステムは、モジュール式の内部設計により、高いカスタマイズ性と容易な拡張性を実現しています。これらのシステムはすべて、カスタム仕様やマルチチャンネルを追加することで、お客様のご要望に応じたカスタマイズが可能です。
光パラメトリックチャープパルス増幅技術と新しい長短パルスファイバーレーザーの組み合わせにより、フェムト秒ポンププローブ、非線形分光、高次高調波発生実験、その他のフェムト秒および非線形分光のための新しいツールとして、市場に送り出すことに成功しました。この新技術OPCPA*を採用したレーザーによって、超高速レーザーはこれまで以上にフォトニクス研究室にとって身近なものになりました。

OPCPAとは

光パラメトリックチャープパルス増幅の略で、従来のTi:サファイアよりも高い出力が得られ、優れた時間コントラスト、広帯域バンド幅を実現します。

特長

  • 新開発OPCPA*(光パラメトリックチャープパルス増幅)テクノロジー採用
  • 特許取得済フロントエンド(特許No.EP2827461, EP2924500)
  • 波長チューニングレンジ
  • パルスエネルギー 最大14mJ@1kHz
  • 優れたパルスエネルギー安定度 ≦1% RMS
  • 完全同期フェムト秒/ピコ秒パルス出力オプション
  • 優れた時間コントラスト
  • PLLによる外部同期可能 ジッター3 ps以下

用途・アプリケーション

  • ブロードバンドCARS、ブロードバンドSFG
  • フェムト秒ポンプ・プローブ分光法
  • 非線形分光法
  • 高次高調波発生

製品仕様

高繰り返しOPCPA 波長可変フェムト秒レーザー UltraFlux HRシリーズ 仕様

型名 UltraFlux FT031k UltraFlux FT31k UltraFlux FT61k UltraFlux FT141k
パルスエネルギー
シグナル光 300 µJ 3 mJ 6 mJ 14 mJ
SHG 60 µJ 0.6 mJ 1.5 mJ 3.5 mJ
THG 15 µJ 150 µJ 0.4 mJ 1.2 mJ
FHG 3 µJ 30 µJ 100 µJ 300 µJ
繰返し周波数 1 kHz
波長可変域
シグナル光 750 〜 960 nm
SHG 375 〜 480 nm
THG 250 〜 320 nm
THG 40 ± 20 fs
エネルギー安定度 ≤ 1 %
長時間出力ドリフト < 1.5 %
ビームプロファイル ガウシアン スーパーガウシアン
ビーム径 〜 2 mm 〜 5 mm 〜 7 mm 〜 15 mm
ビーム位置安定度 ≤ 30 µrad
時間コントラスト
APFC (± 50 ps以内) 107: 1
Pre-pulse (≤ 50 ps) 109: 1
Post-Pulse (> 50 ps) 108: 1

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